冠亚恒温
刻蚀水冷机etch chiller作为半导体光刻工艺的关键温控设备之一，其技术架构围绕高精度温度控制需求设计。设备采用全密闭循环系统，通过磁力驱动泵实现导热介质的循环流动，配合微通道或板式换热器完成热量交换。
一、设备技术架构与温控原理
设备的温控核心在于多算法协同控制。PLC可编程控制器结合PID、前馈PID及无模型自建树算法，实时调节电子膨胀阀开度与压缩机频率，实现系统快速响应。系统还具备温度曲线记录功能，通过触摸屏导出数据，便于工艺追溯与优化。
二、核心技术参数与工艺适配性
1、温度控制范围与精度
刻蚀水冷机的温度范围覆盖广泛，以满足不同光刻工艺需求。这种宽温域控制能力，适配于光刻胶固化、刻蚀腔体冷却等多环节工艺。
2、流量与压力控制技术
设备采用变频泵实现流量准确调节，流量传感器实时反馈信号，通过变频器自动调节转速，确保在不同负载下导热介质流量稳定。
三、光刻工艺中的温控应用场景
1、光刻胶固化温控
在光刻胶涂覆后的固化环节，需通过刻蚀水冷机维持加热板温度均匀性。设备采用快速温变控温卡盘，满足不同胶系的固化需求。卡盘表面电镀镍或黄金处理，防止介质腐蚀，确保长期使用精度。
2、刻蚀腔体温度稳定
刻蚀过程中，腔体温度波动会影响等离子体密度与刻蚀速率均匀性。刻蚀水冷机通过液冷分配单元为腔体冷板提供恒温冷却液，确保腔体温度稳定在设定值范围内。全密闭系统设计避免导热介质挥发，防止污染腔体内部环境。
3、光学系统温控保护
光刻机投影物镜等光学元件对温度要求高，需通过低温制冷维持性能。同时，系统具备防凝露控制，避免低温环境下光学表面结露影响成像精度。
四、设备可靠性设计与验证
1、维护便捷性设计
设备采用模块化设计，只需一台备用机组即可完成维护。接口标配快接装置，流道双向截止，现场可直接插拔维护，减少停机时间。控制系统支持远程监控，通过接口实现故障预警与参数调整，提升运维效率。
2、安全保护机制
设备集成多重保护功能：相序断相保护、压缩机过载保护、高压压力开关等，设备配备压力传感器与热保护装置，同时，膨胀罐稳压设计降低漏液风险，管路材质选用不锈钢与陶瓷等耐腐蚀材料，提升系统使用周期。
刻蚀水冷机etch chiller通过成熟的温控技术与可靠性设计，为半导体光刻工艺提供稳定的温度环境，其技术参数与工艺适配性直接影响光刻线宽精度与制程良率。在设备选型与应用中，需根据具体工艺需求匹配温度范围、控温精度及流量参数，同时通过规范化维护确保设备长期稳定运行。
