SUNDI -10℃~150℃ 2020/06/11 未分类 2370功能参数电源功率(kW):4~20加热功率(kW):2.5~15流量(L/min):20~75压力(bar):1~1.2导热介质控温精度:±0.5℃反应物料控温精度:±1℃冷却方式:水冷/风冷留言咨询
产品介绍技术文档配套产品制冷加热控温系统的典型应用:高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制;小型恒温控制系统、蒸馏系统控温、材料低温高温老化测试、组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制。制冷加热控温系统优点与功能:温度范围从-120℃至350℃,高精度、智能型温度控制。多功能报警系统和安全功能、7寸、10寸彩色TFT触摸屏图形显示,采用磁力驱动泵,没有轴封泄漏问题。高温降温技术,可以从300℃直接制冷降温【因为只有膨胀腔体内的导热介质才和空气中的氧气接触(而且膨胀箱的温度在常温到60度之间),可以达到降低导热介质被氧化和吸收空气中水份的风险。 实验室常规高低温一体机核心技术从多功能集成设计到材料测试与化工合成的温控解决方案在现代实验室研究中,温度控制作为关键环节之一,对实验结果的准确性与可重复性有着重要影响。常规高低温一体机通过整合多种功能模块,构建了适应不同实验需... 工业自动化TCU温控设备核心技术解析从化工反应釜准确控温到制药工艺的智能温度管理解决方案在工业自动化生产中,温度作为关键工艺参数之一,其控制精度与稳定性直接影响产品质量、生产效率及设备使用周期。TCU(Temperature Control Unit)温控设备以... 涂胶显影冷水机高精度温控系统从双回路设计到工艺适配性在半导体光刻制程中的关键作用在半导体制造的光刻工艺链中,涂胶显影设备的温度控制是影响光刻胶均匀性、显影精度及芯片良率的关键因素之一。涂胶显影冷水机作为该环节的温控设备,通过系... 三通道冷水机多温区同步控制技术研究:从硬件架构到智能算法在半导体工艺中的应用与优化在半导体、电子元器件等工业领域的复杂工艺中,多温区同步控制是保障生产精度和设备稳定性的关键环节之一。三通道冷水机作为实现多温区同步控制的核心设备,...查看所有 上一篇: SUNDI -25℃~200℃ 下一篇: SUNDI-320/420W/430W