SUNDI -25℃~200℃ 2020/06/11 未分类 1942功能参数电源功率(kW):4~260加热功率(kW):2.5~200流量(L/min):20~600压力(bar):1~2.5导热介质控温精度:±0.5℃反应物料控温精度:±1℃冷却方式:风冷/水冷留言咨询
产品介绍技术文档配套产品制冷加热控温系统的典型应用:高压反应釜冷热源动态恒温控制、双层玻璃反应釜冷热源动态恒温控制、双层反应釜冷热源动态恒温控制、微通道反应器冷热源恒温控制;小型恒温控制系统、蒸馏系统控温、材料低温高温老化测试、组合化学冷源热源恒温控制、半导体设备冷却加热、真空室制冷加热恒温控制。制冷加热控温系统优点与功能:温度范围从-120℃至350℃,高精度、智能型温度控制。多功能报警系统和安全功能、7寸、10寸彩色TFT触摸屏图形显示,采用磁力驱动泵,没有轴封泄漏问题。高温降温技术,可以从300℃直接制冷降温【因为只有膨胀腔体内的导热介质才和空气中的氧气接触(而且膨胀箱的温度在常温到60度之间),可以达到降低导热介质被氧化和吸收空气中水份的风险。 高低温恒温循环装置在精细化工&制药中间体合成中的应用高低温恒温循环装置在精细化工与制药中间体合成中能够准确控制反应体系的温度,实现从深低温(如-80℃)到高温(如250℃甚至更高)的连续、稳定、可编程的温度... 精细化工合成反应中制冷制热循环机的好处有哪些?在精细化工合成反应中,冠亚恒温制冷制热循环机(也称加热制冷一体控温系统)凭借其高度集成化、智能化和安全可靠的设计,已成为实验室小试、中试放大及工业... 化工反应过程制冷加热控温系统介绍化工反应过程中的制冷加热控温系统(也称温度控制系统、热管理单元或TCU – Temperature Control Unit)是保障化学反应安全、可控运行的关键设备。它通过准确... 真空卡盘的典型应用场景介绍真空卡盘是半导体制造及加工领域中广泛应用的晶圆固定装置,其通过真空吸附原理实现晶圆的稳定固定。 一、真空卡盘的核心特点 非接触式固定,避免物理损...查看所有 上一篇: SUNDI -25℃~300℃ 下一篇: SUNDI -10℃~150℃